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商品详情
应用领域：IC，MEMS，LED，IGBT，SiC Power Device，LTCC
设备特点：
1、能够生成均一性非常好的低压力、高密度plasma
-搭载ISM（有磁场ICP）Plasma源。ULVAC专利。
2、为了保证再现性、稳定性使用了key技术
-STAR电极。ULVAC专利。
3、优秀的基板温度控制
-并用了He导入的ESC式、machine zipper式基板固定。
4、简单且快速的维护-减轻了维护负荷的维护机构。
5、生产性、处理性能向上-300mm托盘，7层Cassette装备。
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3、优秀的基板温度控制
-并用了He导入的ESC式、machine zipper式基板固定。
4、简单且快速的维护-减轻了维护负荷的维护机构。
5、生产性、处理性能向上-300mm托盘，7层Cassette装备。
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