产品价格:电议 元(人民币) 上架日期:2011年5月17日 产地: 发货地: (发货期:当天内发货) 供应数量:不限 最少起订:1台 浏览量:354 暂无相关下载 其他资料下载:
简要说明:
HI84100微电脑二氧化硫滴定分析仪 • 基于微电脑控制技术,集滴定分析,磁力搅拌和电极测量于一体• 残留二氧化硫浓度取决于三个因素:总添加量,原初始量,添加的氧化程度• 通常残留二氧化硫浓度为0.8ppm即可保证抗氧化和净化杂菌的作用• 当残留浓度超过2.0ppm时,即被人感知到,因此以此浓度作为上限值。
HI84100采用滴定分析方法快速测量残留二氧化硫和总二氧化硫含量。在食品加工领域,二氧化硫的主要应用是进行防腐。以葡萄酒为例,当有氧存在时将最先与二氧化硫发生反映,起到抗氧化的作用,进而保证酵母菌的正常发酵,并抑制其他杂菌。 • 基于微电脑控制技术,集滴定分析,磁力搅拌和电极测量于一体• 性能优良操作简单,可直接显示测量结果• 人性化设计,具有稳定标识和校准信息等显示功能• 残留二氧化硫浓度取决于三个因素:总添加量,原初始量,添加的氧化程度• 通常残留二氧化硫浓度为0.8ppm即可保证抗氧化和净化杂菌的作用• 当残留浓度超过2.0ppm时,即被人感知到,因此以此浓度作为上限值。
HI 84100
0 to 400 ppm of SO2
等电位氧化还原滴定法
读数的5%
50 mL
HI 3148B
220V/60 Hz;10VA
0 to 50°C (32 to 122°F);RH max 95%
208 × 214 × 163 mm;2200 g